二硅化钴
二硅化钴 (CoSi2) 是一种金属互化物，也是钴的一种硅化物。它可由钴与硅直接反应产生。它是一种超导体，转变温度为 1.4 K ，为 105 Oe。 参考资料 外部链接 *
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共 11 篇文章
二硅化钼
二硅化钼（， MoSi2 ）是一种钼的硅化合物，由于两种原子的半径相差不大，电负性比较接近，所以其具有近似于金属与陶瓷的性质。熔点高达2030℃，具有导电性，在高温下表面能形成二氧化硅钝化层以阻止进一步氧化，其外观为灰色金属色泽，源于其四方α-型晶体结构，也存在六角形但不稳定的β-改性晶体结构 。不溶于大部分酸，但可溶于硝酸和氢氟酸。 虽然二硅化钼在大于1000℃的高温下具有极高的抗氧化性和杨氏模量，但低温时易脆；另外在超过1200℃的…
硅化铽
硅化铽是稀土金属铽与硅的化合物，化学式为TbSi2。在20世纪50年代中后期，第一次详细描述了这种灰色固体。 在N型半导体中，它的金属电阻率和低肖特基势垒使得它有潜力在实际中应用，例如在红外探测器，欧姆接触，磁阻器件和热电设备上。 在16K时具有反磁性。 参考文献
二硅化铁
二硅化铁（FeSi2）是一种金属间化合物，是一种铁的硅化物，以稀有矿物林芝矿的形式存在于自然界中。在室温下，它形成斜方晶体（β相），加热至970°C时转变为四方α相。 参见 * 硅铁 参考资料
一硅化二镍
一硅化二镍是一种硅化物，化学式为Ni2Si。它可由镍和硅的粉末在高温反应制得，，或由镍的纳米颗粒与苯基硅烷在中反应得到。它和铝加热反应，可以得到Al3Ni和Al3Ni2。 参考文献 延伸阅读 *
二硅化铀
二硅化铀是一种无机化合物，化学式为USi2，它是铀的硅化物之一。它可由铀和硅在液态铋中于450 °C以下反应得到。它也可由计量比的二氧化铀和二氧化硅在1050~1150 °C被钙或氢化钙还原得到。 参考文献
一硅化二铁
一硅化二铁（IUPAC名：Diiron silicide，分子式：Fe2Si）是一种金属互化物，是铁的硅化物。它以哈普克矿的形式存在于宇宙尘埃中。它是一种非化学计量化合物，其中铁和硅比率取决于样品制备。一种与之相关的化合物Fe5Si3在自然界中作为喜峰矿存在。 参见 * 硅铁 参考文献
二硅化钨
二硅化钨是一种无机化合物，化学式为WSi2，是钨的硅化物。它是导电陶瓷材料。 制备 二硅化钨可由钨和硅在1200 °C按化学计量比反应得到。 化学性质 二硅化钨可以和强酸、氟、氧化剂和卤素间化合物剧烈反应。 参考文献
二硅化钛
二硅化钛（TiSi2）是钛和硅的无机化合物。 制备 二硅化钛可以由钛或氢化钛与硅反应制得。 : Ti + 2 Si → TiSi2 其他制备方法包括：点燃铝粉、硫、二氧化硅，以及二氧化钛或六氟钛酸钾（K2TiF6）、电解熔融的六氟钛酸钾和二氧化钛，以及四氯化硅与钛反应。 另一个方法是四氯化钛与甲硅烷、二氯硅烷或硅反应。 : TiCl4 + 2 SiH4 → TiSi2 + 4 HCl + 2 H2 : TiCl4 + 2 SiH2Cl2…
硅化铜
硅化铜（Cu5Si）又名硅化五铜，是一种铜的二元硅化合物，為一种金属互化物，这意味着它的性质介于离子化合物和合金之间。可以通过加热铜与硅的混合物得到。 物理性质 立方晶体，其中a = 0.6224 nm。不溶于水。 应用 硅化铜薄膜可用于钝化铜基芯片，抑制其扩散和电子迁移，及作为扩散阻挡层。 硅化铜也可用于工业上直接合成有机硅化合物。在反应中，硅化铜可以使氯代甲烷硅化。例如，可以制得工业上有用的二甲基二氯硅烷： :2 CH3Cl + S…
二硅化铬
{{Chembox | ImageFile = | ImageSize = | IUPACName = Chromium(2+) silicide | OtherNames = |Section1= |Section2= |Section3={{Chembox Hazards | MainHazards = | FlashPt = | AutoignitionPt = | PEL = TWA 1 mg/m3 | REL = TWA 0.…