脉冲激光沉积
脈衝雷射沉積（，PLD），也被稱為脈衝雷射燒蝕（，PLA）為物理气相沉积(，PVD)的一種 , 是一種利用聚焦後的高功率脈衝雷射於真空腔 體中對靶材進行轟擊，由於雷射能量極強，會將靶材汽化形成電漿蕈狀團(plasma plume)，並沉澱於基板上形成薄膜。 虽然与许多其他沉积技术相比，其基本装置较为简单，但激光与靶材相互作用以及薄膜生长的物理现象却相当复杂（参见下文的过程部分）。当激光脉冲被靶材吸收时，能量首先转化为电子激发能，然后转化…
标签：#薄膜沉積
共 2 篇文章
蒸鍍
蒸鍍（）是指將金屬和氧化物等蒸發，使其於素材的表面附著形成薄膜的方法。屬於鍍膜中的一種，可大略分為物理蒸鍍（PVD）與化學蒸鍍（CVD）兩種。 接下來以PVD的真空蒸鍍來說明。 真空蒸鍍的原理 在達真空的容器中、將欲蒸鍍的材料加熱直至汽化昇華、並使此氣體附著於放置在附近的基板表面上、形成一層薄膜。依蒸鍍材料、基板的種類可分為:抵抗加熱、電子束、高周波誘導、雷射等加熱方式。蒸鍍材料有鋁、亞鉛、金、銀、白金、鎳等金屬材料與可產生光學特性薄膜…