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緩衝氧化物刻蝕劑

緩衝氧化物刻蝕劑( BOE )，也稱為緩衝氟化氫 (BHF 或 Buffered HF )，是一種用在微小尺度加工的溼刻蝕劑。它的主要用途是蝕刻二氧化矽(SiO2 ) 或氮化矽(Si3N4 )薄膜。是一種作為緩衝溶液的混合物，像是氟化銨(NH4F) 和氫氟酸(HF)。因濃氫氟酸（通常是 49% 的氫氟酸溶液）蝕刻二氧化矽的速度太快，無法實現良好的程序控制，且會剝離光刻圖案中使用的光刻膠故添加緩衝氧化物蝕刻通常可以於控制蝕刻的反應速率。 …