标签:#日本化學工程師

共 5 篇文章

轻部征夫

轻部征夫(,),日本生物技术专家,东京大学名誉教授,东京工科大学校长(2008年-2020年)。 生平 1942年生。1966年毕业于东京水产大学水产学部。1972年修完东京工业大学大学院理工学部研究科博士課程。1972年至1974年在美国伊利诺伊大学进修。1974年至1988年在东京工业大学資源化学研究所工作,历任助手、助教授、教授。1988年任东京大学先端科学技術研究中心教授。2002年任东京大学名誉教授。2008年至2020年任东…

田中耕一

田中耕一(,),是一名日本化學、工程學家,任職於京都岛津制作所。日本學士院會員、文化勋章表彰、文化功勞者。 2002年,田中因為「開發生物大分子的同定與構造解析手法」,與库尔特·维特里希及约翰·贝内特·芬恩共同獲得諾貝爾化學獎。他獲獎時僅有學士學位,為歷來諾貝爾化學獎得主中僅見的特例。 早年生活與教育 田中耕一於1959年8月3日出生於日本富山市,因為生母26天後不幸過世,後來他由叔父夫婦領養,田中直到大學一年級才獲知此事。就讀東北大學…

菅裕明

菅裕明(,)是日本的生物化學家,東京大學化學系教授與新創公司的創辦人,現擔任日本化學會會長。 生平 菅裕明於1963年生於日本岡山縣岡山市,1986年於岡山大學獲學士學位,1989年又獲碩士學位,隨後留學美國麻省理工學院(MIT),於1994年獲化學博士學位,指導教授為日裔美國生化學家。畢業後菅裕明至麻省總醫院傑克·索斯塔克實驗室進行三年的博士後研究,1997年獲紐約州立大學水牛城分校化學系聘為助理教授,2002年晉升為副教授,2003…

武智敏

武智敏()是一名日本化學工程師,目前擔任富士通半導體部門的部長。他因開發用於LSI製造的ArF准分子雷射光微影技術的實用感光樹脂(光阻劑)而知名。 用於ArF准分子雷射微影技術的新型光阻材料 LSI是利用微影技術將電路圖案曝光到晶圓上的光阻劑而製成。然而,在製造100nm以下的精細電路圖案時,由於傳統光阻劑對ArF光具有強吸收性,因此無法有效曝光電路圖案。這使得缺乏適用於ArF光的光阻劑成為LSI製造的一大挑戰。 武智首次在全球發現,含…

本多健一

本多健一(;)是一名日本的電化學學者。其最重要的貢獻在於發現並定性研究二氧化鈦光觸媒,並於1960年代發現著名的,因而於2004年與前學生藤嶋昭一同獲得日本國際獎。 「日本公園之父」、日比谷公園的設計者是他的祖父。 榮譽 1979年、法國學術界棕櫚葉勳章 1982年、日本化学会獎 1983年、朝日獎 1983年、美國光科學學會會員 1989年、紫綬褒章 1992年、日本學士院獎 1992年、比利時The Porter Medal Awa…