二氟化氙(化学式:XeF2)是最稳定的氙化合物之一,可长期处放在镍制容器中或干燥的石英和玻璃器皿中而不发生变化。
同其他氟化氙相比较,二氟化氙是一种温和的氧化剂和氟化剂,可生成多种氙化合物。和大部分共价无机氟化物一样,二氟化氙对水敏感。 它遇到 水蒸气或光时会分解,不过收藏在容器内就没问题。 二氟化氙是一种密度大的白色晶体。
它具有卤素气味,并且蒸汽压低。
结构
二氟化氙是一种线形分子。二氟化氙蒸汽的 Xe–F 键长为 ,固态下则是 200 pm 。固体中的堆积排列表明,相邻分子的氟原子避开了每个分子的赤道区域。 这与VSEPR理论的预测一致,该理论预测氙原子的赤道区域周围有3对非键合电子。 但是,最近的理论研究对这些实验结果产生了怀疑。
Xe–F 键较弱。 XeF2 的总键能为267.8 kJ/mol (64.0 kcal/mol)第一和第二键能分别为184.1 kJ/mol (44.0 kcal/mol) 和 83.68 kJ/mol (20.00 kcal/mol)。但是,XeF2比KrF2强得多,后者的总键能仅为92.05 kJ/mol (22.00 kcal/mol) ,是XeF2的三分之一。
物理性质
二氟化氙是一种无色固体,在室温下容易升华而形成大的透明晶体。二氟化氙蒸气是无色的,具有类似卤素的气味
二氟化氙易溶于、、无水氟化氢、 乙腈、NOF·3HF、五氟化碘和二氧化硫中,并不发生电离。二氟化氙在氟化氢里的溶解度很高,29.95 °C 下的溶解度为 167 g 每 100 g HF 。固体二氟化氙晶体属于体心四方晶系,a=431.5pm,c=699.0pm,键长约为200pm。二氟化氙气态时是一种直线型的分子,对称群为D∞h,键长比固态略短,为197.7pm,其中的Xe-F键具有一定离子键的性质,这可以用三中心四电子键来解释。
化学性质
基本反应
*与氢气反应定量地放出氙和生成氟化氢,通常用这个反应来分析二氟化氙。
:\rm \ XeF_2 + H_2 \xrightarrow{673K} Xe + 2HF
*与氟气反应:XeF2可进一步与单质氟反应生成XeF4和XeF6。
:\rm \ XeF_2 + F_2 \xrightarrow{473K} XeF_4
:\rm \ XeF_4 + F_2 \xrightarrow{673K} XeF_6
:O2F2也可以将XeF2进一步氟化成为XeF4和XeF6。
*与水反应,中间产物可能有XeO自由基、H2O2、XeF+等。
:\rm \ 2XeF_2 + 2H_2O \rightarrow 2Xe + O_2 + 4HF
*与碱反应:
:\rm \ 2XeF_2 + 4OH^- \rightarrow 2Xe + O_2 + 4F^- + 2H_2O
*与双氧水反应,中间产物有自由基O、OH、XeF,以及HO2。
:\rm \ 2XeF_2 + H_2O_2 \rightarrow Xe + O_2 + 2HF
不生成氙化合物
同无机物的反应
二氟化氙是一种具有氧化性的氟化剂,往往会同时发生氧化和氟化反应。二氟化氙被还原时放出氙,但不生成氙化合物。作为氟化剂来说,无论从热力学还是动力学的观点,二氟化氙的氟化本领不如单质氟或某些氟化物,显示出有一定的钝性:
ClF5 > BrF5 > IF7 > ClF > BrF3 > XeF2 > IF5 > BrF
也正因为如此,用二氟化氙作氟化剂比较安全和操作方便。
此外,二氟化氙在反应后,氙一般不会进入到产物中,释出的氙可以循环使用,所以它是一种很好的氟化剂。它可以氟化许多无机化合物,并且是一种选择性很好的无机物氟化剂。二氟化氙只有在气相和非水溶液中才具有氟化性质,在水溶液中它只能起氧化剂的作用。
同有机物的反应
有机化合物的氟化是近代化学的重要课题。用单质氟作氟化剂,由于技术和安全方面的困难,受到很大限制,反应剧烈不易控制,可引起有机化合物的断链,或者一直进行到生成全氟化合物。利用其他氟化剂,如氟化氢、某些金属氟化物、卤素氟化物,虽然也可以同有机化合物发生氟化取代反应,但反应物的产率一般都较低,选择性也较差。四氟化氙和六氟化氙同水易生成具有爆炸性的三氧化氙,而且六氟化氙的氟化-氧化性质太强,可引起有机物的断链。唯独二氟化氙的氟化性比较温和,又比较稳定,操作比较安全,而且反应物的产率和氟化选择性也都比较好。
非环化合物
用二氟化氙作氟化剂可以使烯烃的氟化反应得到一定的改善。气相氟化反应在室温下按下式进行:
:
二氟化氙能溶于乙腈中,在室温下只是单纯溶解,不发生化学反应;当升高温度到乙腈的沸点时,二氟化氙才会对乙腈发生氟化。然而在痕量的路易斯酸(如三氟化溴、五氟化砷、五氟化磷或四氟化钛)存在时,二氟化氙就会同乙腈发生氟化-氧化反应并放出氙。对于路易斯酸在这里所起的作用,有人提出如下解释:二氟化氙溶解在这些溶剂里呈分子状态,没有发生电离;当加入路易斯酸时,二氟化氙电离而产生
XeF+和Xe2F3+,这些物种反应能力比二氟化氙强得多
: + → + Xe
碳环化合物
二氟化氙对碳环化合物具有优良的选择性氟化性能,比传统的氟化过程简便。
;苯的氟化
二氟化氙对苯直接氟化制取氟苯有良好的效果,以四氯化碳为溶剂,产率为68%。反应机理为自由基反应。除氟代苯外,还生成了少量的联苯。苯的同系物甲苯、氯苯等同二氟化氙反应,也生成少量的联苯。体系的电子顺磁共振谱表明有对位R(C6H4)2R+ (R=CH3,Cl,F,F-C6H4-C6H4-)自由基存在。二氟化氙可将电极电势较高的化合物变为阳离子自由基,起到R(C6H4)2R+自由基生成剂的作用,。
;含苯氧基的化合物
:含苯氧基(C7H7O)的氟化合物是有价值的药物,用传统的氟化方法合成流程较长。利用二氟化氙的选择性氟化性能,直接对苯环进行氟化,只需一步反应就可完成,例如:
::C6H5OCH3 + XeF2 -(CH2Cl2)→ C6H4(OCH3)F (71%)
;稠环烃
:二氟化氙可用于合成很多稠环烃的氟化物,如1,4-二氟代萘以及与蒽、芘反应的产物。
杂环化合物
5-氟代尿嘧啶(5-Fu, Fluorouracil)是一种有价值的药物,可用来抗癌。在生物化学方面,它是同核酸有关的一类化合物。在室温下尿嘧啶可以被二氟化氙一步直接氟化成为5-氟代尿嘧啶。
:
生成氙化合物
二氟化氙可与酸反应,生成对应的氟化氙衍生物。这是目前制取氙(II)化合物的重要途径之一。
反应通式为:
:XeF2 + HA → FXeA + HF
:FXeA + HA → XeA2 + HF
其中HA是质子酸,A是电负性较强的基团。
File:Xenon(II) bis(trifluoroacetate) in DCM at -25℃.jpg | 在-25℃的低温条件下,将二氟化氙与三氟乙酸按化学计量比1:2于二氯甲烷中反应,可以得到含双-(三氟乙酸)氙(Ⅱ)的浅黄色溶液
File:Xenon(II) bis(trifluoroacetate) in DCM at -78℃.jpg | 该溶液在-78℃下为无色
一些氟离子受体和二氟化氙作用也可产生对应的氙化合物:
与五氟化锑的反应
2XeF2 + SbF5→ [Xe2F3+][SbF6−]
XeF2+SbF5 →[XeF+][SbF6-]
与三氧化硫的反应
SO3+XeF2 → FXeOSO2F
SO3+FXeOSO2F→Xe(OSO2F)2
反应通式为:
::2XeF2 + A(Lewis酸) → Xe2F3[AF]
::XeF2 + A(Lewis酸) → XeF[AF]
::XeF2 + 2A(Lewis酸) → Xe[AF]2
这些氙化合物的稳定性都不如二氟化氙,并且同水反应生成氙、氧和相应的酸或酸的水解产物。只有HOTeF5和HOSeF5形成的化合物较稳定,在100℃以上才开始分解。Xe(OTeF5)2与水反应很慢,但在碱性溶液反应剧烈。值得一提的是,核磁共振和拉曼光谱证实,FXeN(SO2F)2含有Xe-N键。FXeOSO2F一端与氟原子相连,另一端与氟磺酸基团中的氧相连。
合成方法
合成二氟化氙的方法有:
*单质合成:条件可以是加热、光合成、放电、电子束照射、γ-辐射或以氧或空气为载气反应,将装有单质混合物的透明容器于阳光下曝晒便可合成。反应产物是固体。整个合成过程必须保持氙过量,否则会有过多的副产物四氟化氙影响纯度。通过分馏或使用真空管线的选择性缩合可将其纯化。 :
:Xe + F2 → XeF2
在 1965年,人们发现氙和二氟化二氧反应会产生二氟化氙。
:Xe + O2F2 → XeF2 + O2
*其他氟化物氟化,可用的氟化试剂有四氟化碳、四氟化硅、五氟化铬、二氟二氯甲烷、次氟酸三氟甲酯(CF3OF)、二氟化二氧、二氟化二氮及氟磺酸氟等。
:Xe + 2CF4 -放电→ XeF2 + C2F6
:Xe + 2SiF4 -放电→ XeF2 + Si2F6
:Xe + CrF5 → XeF2 + CrF3
:2 Xe + 2 CF2Cl2 → 2 XeF2 + C2Cl4(通过放电管)
:Xe + CF3OF → XeF2 + COF2(250atm,500K)
:Xe + FSO3F → XeF2 +SO3(150atm,450K)
:N2F2 + Xe → XeF2(含其他的氙氟化物)+ N2(80-150°C)
*四氟化氙与氙发生归中反应:
:XeF4 + Xe -高压→ 2XeF2
报告
XeF2的第一个公开报告是在1962年10月由Chernick等人撰写的。 但是,尽管较晚发布, XeF2 最早是由明斯特大学的于1962年初通过使氟气和氙气的混合物在放电中反应而发现的。 这些报告发表后不久,阿贡国家实验室的Weeks,Cherwick和Matheson报告了使用具有透明氧化铝窗口的全镍系统合成XeF2的过程,在紫外线源照射下,氙和氟气在低压下反应,得到XeF2。 Williamson 报道说,该反应在干燥的派热克斯玻璃灯泡中,标准大气压下,以太阳光为紫外线源,反应过程同样良好。他注意到即使在阴天,也可以进行二氟化氙的合成。
在先前的合成中,会有纯化氟气以除去氟化氢的步骤。 Šmalc和Lutar发现,如果跳过此步骤,反应速率将以原始速率的四倍进行。
参见
- 四氟化氙
- 六氟化氙
*二氟化氪
*二氟化氡
参考资料
- 冯光熙,黄祥玉。《无机化学丛书》第一卷。51页。
扩展阅读
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外部链接
- [http://webbook.nist.gov/cgi/cbook.cgi?ID=C13709369 WebBook page for XeF2]
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