東京應化工業株式會社（，，簡稱「TOK」）是一家總部位於日本神奈川縣川崎市的化學公司，於東京證券交易所Prime市場上市。公司專營半導體製造所需的電子功能材料與高純度化學品，核心產品為光阻劑，即半導體製造不可或缺的感光性化學材料。據公司資料，2024年其半導體光阻劑的整體市占率約為24.7%，居全球之首；其中準分子雷射用的KrF光阻劑與汞燈用的g/i線光阻劑市占率皆為全球第一，極紫外光（EUV）光阻劑則居全球第二。其產品涵蓋光阻劑、顯影液、稀釋液與剝離液等電子功能材料與高純度化學品。1968年起，公司開發並銷售日本首款國產半導體光阻劑，逐步確立其在感光性材料領域的地位。
歷史
創立與早期
東京應化工業的前身為創辦人向井繁正於1936年4月在東京市品川區成立的「東京應化研究所」，1940年10月改組為「東京應化工業株式會社」。1962年，公司開始製造印刷電路板用光阻劑TPR，跨入感光性材料領域。
海外擴張與先進製程
1987年，公司於美國加州設立子公司奧卡美國（現TOK America），並於1993年5月在俄勒岡州希爾斯伯勒（）啟用首座海外工廠，生產i線半導體光阻劑與高純度化學品。為因應先進製程對光阻劑的需求，公司近年投入次世代2奈米製程所需材料的研發，並擴充韓國等地的產能。2024年6月，公司與新創企業Carbon Xtract締結共同開發協議，合作開發以氣體分離膜從大氣中捕集二氧化碳的直接空氣捕集（，DAC）技術，由東京應化負責分離膜的開發與量產。2025年2月，公司將位於德國柏林、專長感光性光阻與奈米壓印材料的micro resist technology收為全資子公司，以強化歐洲市場布局。2026年2月，公司宣布對英國Irresistible Materials進行策略性投資並共同開發，取得其多重觸發光阻（MTR）技術。
產品與技術
光阻劑
光阻劑是半導體製造不可或缺的感光性化學材料。製造晶片時，光阻劑先塗布於晶圓表面，再透過曝光將光罩上的電路圖案轉印至晶圓，並經顯影、蝕刻等步驟形成電路。由於EUV曝光波長極短、抵達晶圓的光子數遠少於既有的深紫外光（DUV）製程，光阻劑須精確調配光酸產生劑等成分，技術門檻甚高。
海外
東京應化的海外據點包括美國的TOK America（1987年設立，俄勒岡州希爾斯伯勒廠1993年投產）、台灣的TOK Taiwan（1998年設立，總部設於新竹市、並於苗栗縣銅鑼鄉設廠）、與三星物產合資、2012年成立的韓國TOK Advanced Materials（廠房位於仁川廣域市松島），以及2002年起設於上海的中國據點。
市場與競爭
半導體光阻劑市場長期由少數日本廠商主導。據市場研究機構集邦科技（TrendForce）2025年的資料，東京應化與JSR等日本廠商合計約占全球91%的市場。東京應化依2024年出貨量自陳其半導體光阻劑整體市占約24.7%、居全球之首。在EUV光阻劑方面，東京應化自陳居全球第二。其中JSR曾於2017年與2020年參與美國Inpria公司的募資，其後將其完全收購，藉以取得金屬氧化物光阻（MOR）技術。
公司的營收以光阻劑與高純度化學品等電子材料為主，並以海外市場為主要銷售地，2025年12月期海外客戶銷售約占85%；在財務報告上，公司列為單一營運分部。截至2024年12月底，公司合併員工數為1,996人。公司於2024年2月制定中期目標，計劃將集團整體的二氧化碳排放量在2030年較2019年減少30%，以對齊《巴黎協定》的1.5°C目標。公司並就範疇一、範疇二與範疇三的溫室氣體排放進行盤查與揭露。
資料來源
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