原硅酸氧钆是一种无机化合物,化学式为Gd2OSiO4。它可由K3GdCl6和四氯化硅或无定形二氧化硅在氧气流中加热至950~1100 °C反应得到。它也可在氧化钆和二氧化硅的固相高温反应中生成。掺杂其它镧系元素(如Ce3+、Yb3+)的Gd2OSiO4晶体在光学方面已有较多研究。
参考文献
拓展阅读
- 张涵. [https://www.ixueshu.com/document/df575532be2abf64318947a18e7f9386.html 浅析掺杂硅酸钆晶体的研究现状] . 科技信息, 2014 (8): 76-76.
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