{{chembox
| verifiedrevid = 470615359
| ImageFile = Trimethylaluminium-3D-balls.png
| ImageSize =
| IUPACName = Trimethylalane
| ImageFile1 = Trimethylaluminium-from-xtal-3D-sf.png
| Section1 =
| Section2 = {{Chembox Properties
| Formula = C6H18Al2
| MolarMass = 144.17 g/mol
72.09 g/mol (C3H9Al)
| Appearance = 无色液体
| Density = 0.752 g/cm3
| MeltingPtC = 15
| BoilingPtC = 125
| Boiling_notes =
| Entropy = 209.4 J/mol·K
| GHSSignalWord = 危险
| HPhrases = ，在结构上和乙硼烷相似。像乙硼烷一样，这个化合物同样有两个三中心两电子键：在两个铝原子之间有一个共用的甲基。端位的Al-C键和中间的Al-C键的距离分别是1.97和2.14埃，中间甲基上的每个碳原子都被三个氢原子和两个铝原子包围。这些甲基在分子内和分子间可以自由转换。
三中心两电子键是"缺少电子"的分子而且倾向于与路易斯碱反应，产物含有两中心两电子键。例如和氨反应生成加合物 R3N-AlMe3。Al2Me6与氯化铝反应生成的(AlMe2Cl)2是另一个遵守八隅体规则的反应产物。
AlMe3的单体含有一个铝原子和三个甲基，这种单体仅会在高温低压下存在
制备与应用
TMA可以通过两步反应制取，总反应式如下：
:2 Al + 6 CH3Cl + 6 Na → Al2(CH3)6 + 6 NaCl
TMA主要用来生产甲基铝氧烷，用于活化烯烃聚合的齐格勒-纳塔催化剂。TMA也作为甲基化试剂。用于亚甲基酯和酮的Tebbe试剂就是由TMA制备的。TMA也用在探空火箭上，用作研究上层大气风模式的示踪剂。
通过化学气相沉积或原子层沉积过程，TMA也可用于制造半导体的沉积高介電係數介電質;}-薄膜，例如Al2O3。
TMA与叔胺DABCO形成化合物，这比直接处理TMA本身更安全。
在Cp2ZrCl2（二氯二茂锆）的催化下，(CH3)2Al-CH3能够与炔烃反应生成烯基铝，这个反应在被称为carboalumination的有机合成反应中起作用。
NASA的ATREX任务利用TMA与空气接触产生的白烟研究高空急流。
半导体级TMA
TMA是有机金属化学气相沉积法（MOVPE）制造含铝半导体（如AlAs, AlN, AlP, AlSb, AlGaAs, AlInGaAs, AlInGaP, AlGaN, AlInGaN, AlInGaNP等）中有机金属的重要来源。TMA的质量标准主要关注元素杂质、氧化杂质和有机杂质的含量。
参看
外部链接
*[http://www.nasa.gov/mission_pages/sunearth/missions/atrex-nightlight.html NASA ATREX mission article].
评论 (0)