物理气相沉积

物理气相沉积（，簡稱PVD）是一種工業製造上的工艺，屬於鍍膜技術的一種，是主要利用物理方式來加熱或激發出材料过程来沉积薄膜的技术，即真空鍍膜(蒸鍍)，多用在切削工具與各種模具的表面處理，以及半導體裝置的製程上。

和化学气相沉积相比，物理气相沉积适用范围广泛，几乎所有材料的薄膜都可以用物理气相沉积来制备，但是薄膜厚度的均匀性是物理气相沉积中的一个问题。

主要的物理气相沉积的方法有：

参见
*表面处理

参考文献
外部連結

• [http://www.svc.org/ Society of Vacuum Coaters]
• [https://web.archive.org/web/20110716174940/http://www.syngraphics.com/whatsnew_PVD.html PVD Animation]—an animation of a generic PVD sputter tool
• [https://web.archive.org/web/20150208212959/http://www.pvd-metallizer.com/shownews_11.html Physical vapor deposition]