軟微影技術

軟微影技術（soft lithography），又稱軟微影製程、可撓性奈米轉印、軟蝕刻技術或軟光刻技術，是一種用軟性高分子材質做成的可撓性刻印的模具，在模具上面塗佈具有自我組合性能的單元分子(SAM， Self-Assembly Monomer)後，像印章一樣，在鍍金的薄膜基板上微壓，把奈米圖形模子上面凸出部分的自我組合性能的單元分子(SAM)像油墨一樣的印在金薄膜上。

缺點
現在的積體電路包含了好幾層不同的材料，PDMS壓模的扭曲變形會導致複製圖案的小誤差，也使上下層做好的圖形排列得不整齊。即使是最微小的排列誤差或扭曲，都會損壞多層奈米電子裝置。因此，軟蝕刻法不適合製造需要精準堆疊的多層結構。此缺點可藉熱壓成形式奈米壓印或步進光感式奈米壓印來改善之。

參見
*光刻
*微機電系統
*微流控
參考資料
腳註
文獻
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